沸石转轮+RTO：半导体行业VOCs排放稳定≤20mg/m3的科技利器

半导体产业作为尖端科技的核心，其生产过程中产生的挥发性有机物（VOCs）成分复杂、浓度波动大，对末端治理技术提出了极高要求。面对日益严苛的≤20mg/m³排放标准，沸石转轮吸附浓缩 + 蓄热式氧化炉（RTO） 的组合工艺脱颖而出，成为行业公认的高效、稳定达标路径。 

核心工艺解析：双剑合璧，高效净化 

沸石转轮吸附浓缩 - 智慧的“捕集者”： 

高效吸附： 利用特殊疏水性沸石分子筛材料，对大风量、低浓度的半导体工艺废气（如异丙醇、丙酮、光刻胶溶剂等）进行高效选择性吸附，实现VOCs的富集。 

深度浓缩： 洁净空气直接达标排放。吸附饱和的转轮区域转入脱附区，利用小流量热空气（通常180-220℃）将VOCs高效脱附出来，实现浓度提升10-30倍，大幅减小后续处理设备的规模与能耗。 

蓄热式氧化炉（RTO） - 强力的“终结者”： 

高温氧化： 将浓缩后的高浓度VOCs废气引入RTO燃烧室，在高温（通常760-850℃）下进行彻底氧化分解，转化为无害的二氧化碳和水蒸气。 

蓄热节能： RTO核心在于其蓄热陶瓷床。高温净化气经过蓄热床时释放热量加热陶瓷体，切换流向时，冷的进气从另一侧蓄热床吸收热量预热，如此循环往复，热能回收效率通常高达95%以上，显著降低燃料消耗，运行成本经济。 

攻克≤20mg/m³壁垒的核心优势 超高去除效率（>99%）： 

沸石转轮对低浓度VOCs的高效捕集与浓缩，结合RTO对高浓度废气近乎完全的氧化破坏能力，确保系统整体去除效率远超常规单一技术，轻松应对最严格的排放限值。 

卓越的稳定性与适应性： 沸石材料化学性质稳定，耐高温、耐溶剂腐蚀，寿命长。RTO运行稳定可靠，对废气浓度波动有极强缓冲能力。组合工艺特别适合半导体行业废气风量大、浓度低且波动显著的特点。 

显著的运行经济性： 沸石转轮大幅降低进入RTO的废气处理量，RTO自身的高热回收效率又大幅降低了燃料消耗。两者结合，使得处理单位VOCs的运行成本（尤其是能耗）远低于直接焚烧或单一RTO处理大风量废气。 

智能控制与安全保障： 系统配备先进PLC/DCS控制系统，实现全过程自动化运行、参数实时监控与连锁保护（如浓度监控、高温报警、熄火保护等），确保生产安全与环保达标万无一失。 

半导体行业应用场景 

该组合工艺广泛应用于半导体制造中的多个关键环节：光刻（涂胶、显影、去胶）、刻蚀、离子注入、化学气相沉积（CVD）、清洗（湿法、干法）等工序产生的含IPA、PGMEA、丙酮、苯系物、氟系溶剂等复杂VOCs废气处理。 

选择沸石转轮+RTO，不仅是满足≤20mg/m³排放标准的必由之路，更是半导体企业实现绿色生产、践行社会责任、保障可持续发展的智慧之选。 其高效、稳定、经济的特性，为芯片制造的洁净未来提供了强大的技术支撑。